1、可以观察直径为0 ～ 30mm 的大块试样(在半导体工业可以观察更大直径)，制样方法简单。

    2、场深大，三百倍于光学显微镜，适用于粗糙表面和断口的分析观察；图像富有立体感、真实感、易于识别和解释。

   3、放大倍数变化范围大，一般为 15 ～ 200000 倍，最大可达 10 ～ 1，000，000 倍，对于多相、多组成的非均匀材料便于低倍下的普查和高倍下的观察分析。

   4、具有相当的分辨率，一般为 2 ～ 6nm ，最高可达0.5nm 。